Intel Foundry treibt High-NA-EUV voran: Über eine Million Wafer verarbeitet

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High-NA-EUV erreicht die Fertigungsphase

Intel Foundry und ASML haben am 8. September den Fortschritt bei der Einführung von High Numerical Aperture Extreme Ultraviolet, kurz High-NA-EUV, in der Halbleiterproduktion hervorgehoben. Die Technologie wird bei Intel bereits in der Hochvolumenfertigung eingesetzt. Nach Angaben der Unternehmen wurden bislang mehr als eine Million Wafer über frühe Zertifizierungs- und Testphasen, Forschungs- und Entwicklungsprogramme sowie die Produktion ausgewählter Schichten verarbeitet.

Auch die zentralen Betriebskennzahlen entwickeln sich laut Intel innerhalb der Erwartungen. Dazu zählen die Überlagerungsgenauigkeit der Strukturen, der Durchsatz der Anlagen und deren Verfügbarkeit. Diese Faktoren sind entscheidend, damit sich eine hochmoderne Lithografietechnik von einem Entwicklungserfolg zu einem wirtschaftlich nutzbaren Produktionsverfahren entwickelt.

18A-Prozess liefert technisches Signal

Ein Teil der Intel-Core-Ultra-Series-3-Prozessoren mit dem Codenamen Panther Lake wird auf dem 18A-Prozess gefertigt. Für ausgewählte Schichten kommt dabei High-NA-EUV zum Einsatz. Intel zufolge erreichen die entsprechenden Produkte eine Leistung, die mindestens den vergleichbaren Schichten mit der bisherigen NXE-Plattform entspricht oder diese übertrifft.

• Technologischer Fortschritt: High-NA-EUV wird nicht nur in der Forschung, sondern bereits in ausgewählten Produktionsschritten genutzt.
• Fertigungsqualität: Overlay, Durchsatz und Anlagenverfügbarkeit liegen nach Unternehmensangaben im Zielkorridor.
• Produktbezug: Die Technologie ist bereits mit ausgewählten 18A-Schichten für Panther Lake verknüpft.

Analysten-Einordnung: Dies deutet darauf hin, dass Intel High-NA-EUV zunehmend als belastbaren Bestandteil des eigenen Fertigungsablaufs positioniert und nicht mehr nur als langfristige Labortechnologie betrachtet. Für Anleger bedeutet diese Entwicklung ein positives Signal für die technische Glaubwürdigkeit der Foundry-Strategie. Die Meldung belegt allerdings noch keine vollständige Serienreife über alle 18A-Schichten, keine breite Nutzung durch externe Kunden und auch keine Aussage zur Profitabilität der eingesetzten Anlagen.

Aktie mit deutlichem Jahresplus

Die Intel-Aktie lag an der Lang & Schwarz Exchange zuletzt bei 85,23 EUR und stieg im Tagesverlauf um 2,21 Prozent. Seit Jahresbeginn summiert sich das Plus auf 171,56 Prozent. Der Kursanstieg ist jedoch nicht automatisch ausschließlich dem High-NA-EUV-Update zuzuschreiben, da die Aktie zugleich von weiteren Meldungen zur Produkt- und Margenstrategie des Konzerns bewegt wird.

Für die Bewertung der Foundry-Fortschritte kommt es daher auf wiederholbare operative Nachweise an. Besonders wichtig sind eine Ausweitung der High-NA-Nutzung auf weitere Schichten und Produkte, stabile Ausbeuten, wettbewerbsfähige Fertigungskosten sowie die Gewinnung externer Kunden.

Fazit & Ausblick

Intel und ASML liefern mit mehr als einer Million verarbeiteten Wafern und den gemeldeten 18A-Ergebnissen einen konkreten Beleg für die zunehmende Produktionsnähe von High-NA-EUV. Der nächste entscheidende Schritt besteht darin, die Technologie über ausgewählte Schichten hinaus zu skalieren und daraus verlässlich bessere Fertigungsökonomie zu erzielen. Erst dann lässt sich beurteilen, ob der technische Fortschritt auch nachhaltig die Wettbewerbsposition und die Margen von Intel Foundry stärkt.